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Created on: Sun, 30 Jun 2024 16:29:10 +0200 in 0.0703 sec


Rogge, Norbert; Lin, Shan; Rothleitner, Christian; Vasilyan, Suren
Excitation frequency dependent deviations during the "Velocity Mode" of BL measurements in the Planck-Balance. - In: Electrical and electronic measurements promote industry 4.0, (2020), S. 198-202

Lin, Shan; Rothleitner, Christian; Rogge, Norbert
Amplitude estimation using three-parameter sine fitting algorithm in the Planck-Balance. - In: Electrical and electronic measurements promote industry 4.0, (2020), S. 77-80

Meister, Andreas;
Ein Beitrag zur Modellbildung und Steuerung der Nanopositionier- und Nanomessmaschine 200. - Ilmenau, 2020. - XV, 112 Seiten
Technische Universität Ilmenau, Dissertation 2020

Stetiger Fortschritt im Bereich der Digitalisierung und Informationsverarbeitung erfordern immer feinere optische und Halbleiterstrukturen. Diese sind nur durch immer hochauflösendere Fertigungsverfahren herstellbar. Damit steigt die Bedeutung hochpräziser Nanopositionier- und Nanomesstechnik. Sie wird einerseits für die Überprüfung hergestellter Strukturen, als auch für die eigentliche Fertigung benötigt. Zusätzlich benötigen komplexere Strukturen mehr Bauraum. Somit steigt der Bedarf an Nanopositionier- und Nanomessmaschinen mit großem Bewegungsbereich in Kombination mit höchstmöglicher Präzision. Mit Arbeitsbereichen von mehreren hundert Millimetern sowie Mess- und Positionierauflösungen im Nanometerbereich schließen sie die Lücke zwischen Koordinatenmessmaschinen und Rastersondenmikroskopen. Die Nanopositionier- und Nanomessmaschine 200 ist einer der fortschrittlichsten Vertreter. Ihr einzigartiger Aufbau ermöglicht kleinste Messunsicherheiten von unter 30 nm in einem Arbeitsbereich von 200 x 200 x 25 mm^3. Mess- und Fabrikationsaufgaben können sowohl bei Umgebungsdruck, als auch im technischen Vakuum erfolgen. Das dafür realisierte Antriebskonzept stellt besondere Aufgaben an die Steuer- und Regelungsalgorithmen. In der vorliegenden Arbeit werden neue Modelle der Antriebssysteme und bewegten Achsen entworfen und weiterentwickelt. Durch die spezielle Anordnung der Baugruppen für die vertikale Bewegung führen Rotationen zu erheblicher Wechselwirkung mit allen anderen Messachsen. Ein präzises Bewegungsmodell ermöglicht eine signifikante Verbesserung der Regelgüte. Daher wird das bisherige plattformbezogene Reibungsmodell durch ein führungsbezogenes ersetzt. Restfehler zwischen mathematischer Beschreibung und Messung können somit deutlich reduziert werden. Weiterhin wird das Modell um verschiedene Ansätze erweitert, die einen Einfluss der Kippwinkel berücksichtigen. Diese werden mit Messdaten abgeglichen und bewertet. Aufgrund auftretender Rastkräfte sind positionsabhängig hohe Antriebsströme in den planaren Antrieben erforderlich. Die vorhandenen Kühlsysteme können nicht hinreichend schnell auf die Änderungen der in Wärme umgesetzten Verlustleistung reagieren. Dadurch entstehende Temperaturschwankungen sind beim Betrieb in Vakuum grundsätzlich zu vermeiden. Aufbauend auf einer Kompensation der Rastkräfte wird eine Strategie entwickelt, um die Leistungsaufnahme auf einem möglichst niedrigen Niveau zu stabilisieren. Hierfür werden verschiedene Methoden vorgeschlagen und untersucht. Zur Vermeidung von Störkräften werden minimale Schwankungen der Leistungsaufnahme zugelassen, die so kurzfristig ausgeglichen werden, dass keine relevanten Temperaturschwankungen entstehen.



Manske, Eberhard; Fröhlich, Thomas; Füßl, Roland; Ortlepp, Ingo; Mastylo, Rostyslav; Blumröder, Ulrike; Dontsov, Denis; Kühnel, Michael; Köchert, Paul
Progress of nanopositioning and nanomeasuring machines for cross-scale measurement with sub-nanometre precision. - In: Measurement science and technology, ISSN 1361-6501, Volume 31 (2020), number 8, 085005, Seite 1-8

https://doi.org/10.1088/1361-6501/ab848c
Bischoff, Jörg; Pahl, Tobias; Lehmann, Peter; Manske, Eberhard
Model-based dimensional optical metrology. - In: Optics and Photonics for Advanced Dimensional Metrology, (2020), S. 113520P-1-113520P-13

https://doi.org/10.1117/12.2554517
Belkner, Johannes; Hofmann, Martin; Kirchner, Johannes; Manske, Eberhard
Demonstration of aberration-robust high-frequency modulated Differential Confocal Microscopy with an oscillating Pinhole. - In: Optics and Photonics for Advanced Dimensional Metrology, (2020), S. 113520N-1-113520N-10

Metrological stages such as the nano-positioning and nano-measurement machine (NPMM) can position single-digit nanometer accurately on centimeter working volumes. However, their measurement system requires a feedback to the arbitrary shaped specimen by another probe. The differential confocal microscopy (DCM) offers the possibility to have a sensitivity down to that single-digit nanometers but suffers from noise and aberration. Recently the principle of the LockIn filtering could be successfully adapted in DCM and therefore achieved a high SNR. Contrary to the there employed acoustically driven tunable GRIN lens (TAG lens) at the objective, we demonstrate a microelectromechanical system (MEMS), an AFM cantilever, as an ultrafast oscillating pinhole in front of the detector. Its first resonance at 96kHz makes it very competitive regarding acquisition speed, but the low oscillation amplitude lowers contrast. By principle inheriting the possibility to compensate a change in reflectivity, we present another advancement for the evaluation of the resulting differential signal to make it robust against sample induced systematic depth errors, e.g. a tilt-angle. This could be advantageous for DCM with static beam-paths, as well. Potentially, the highest improvement can be achieved in conjunction with the NPMMs highly accurate measurement interferometers, because the residual error for the depth of a specimen under the influence of varying aberration is kept below 20nm.



https://doi.org/10.1117/12.2555558
Bischoff, Jörg; Mastylo, Rostyslav; Manske, Eberhard
Scanning wavefront detection coherent Fourier scatterometry (SCFS). - In: Optics and Photonics for Advanced Dimensional Metrology, (2020), S. 1135214-1-1135214-11

https://doi.org/10.1117/12.2554526
Manske, Eberhard; Jäger, Gerd; Mastylo, Rostyslav; Dontsov, Denis
Nanopositioning and nanomeasuring machine for multi-sensor applications. - In: Measuring Equipment and Metrology, ISSN 2617-846X, Bd. 81 (2020), 2, S. 17-24

In micro- and nanotechnology, the demands placed on measurement technology are increasing. The structures to be measured are becoming more complex with smaller structure widths, increasingly larger surface regions, and thousands of inspection features. To solve the problems, it has become desirable and even necessary to combine multi-sensor technology with high precision nanopositioning and nano measuring technology. The Nanopositioning and Nanomeasuring Machine NMM-1 with a measuring range of 25 mm × 25 mm × 5 mm and sub-nanometer resolution allow the application of several optical, tactile and atomic force probes. The combination of several sensor technologies in a multi-sensor approach for application with the NMM-1 is demonstrated.



https://doi.org/10.23939/istcmtm2020.02.017
Omidian, Maryam; Néel, Nicolas; Manske, Eberhard; Pezoldt, Jörg; Lei, Yong; Kröger, Jörg
Structural and local electronic properties of clean and Li-intercalated graphene on SiC(0001). - In: Surface science, ISSN 1879-2758, Bd. 699 (2020), 121638

https://doi.org/10.1016/j.susc.2020.121638
Sommer, Klaus-Dieter; Fröhlich, Thomas; Härtig, Frank
The revised International System of Units (SI) and the resulting new potentials :
Das erneuerte Internationale Einheitensystem (SI) und seine Potenziale. - In: Technisches Messen, ISSN 2196-7113, Bd. 87 (2020), 4, S. 223-225
Editorial

https://doi.org/10.1515/teme-2020-0007