Habilitations from 2018

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Teichert, Gerd; Pezoldt, Jörg; Cimalla, Volker; Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar
Analysis of reflection high energy electron diffraction pattern of silicon carbide grown on silicon. - In: Evolution of epitaxial structure and morphology, (1996), S. 17-22

Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar; Breternitz, Volkmar
Ohmic contacts to p-type 6H-silicon carbide. - In: Applied surface science, Bd. 91 (1995), 1/4, S. 347-351

http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(95)00144-1
Stauden, Thomas; Eichhorn, Gerd; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg; Ecke, Gernot; Nennewitz, Olaf
ECR-Abscheidung von AlN auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 756-759

Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar; Breternitz, Volkmar
Ohmsche Kontakte auf p-type 6H-Siliciumkarbid. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 730-735

Fabricius, Alexander; Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg
Herstellung von WSi 2 und TiSi 2 durch Co-Sputtern und RTA. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 724-729

Hotový, Ivan; Vanek, Oldrich; Spieß, Lothar; Nennewitz, Olaf
NiO thin films applicable in gas sensors. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 713-718

Angelov, Mirko; Schön, S.; Goldhahn, Rüdiger; Nennewitz, Olaf
Synthese von ZnGe(As x P 1-x) 2 -Kristallen und Charakterisierung mittels elektrolytischer Elektroreflexion. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 692-697

Nennewitz, Olaf; Schmidt, H.; Pezoldt, Jörg; Stauden, Thomas; Schawohl, Jens; Spieß, Lothar
X-ray diffraction analysis of RTP-annealed thin ZnO films. - In: Thin films, (1994), S. 666-669

Nennewitz, Olaf; Schmidt, H.; Pezoldt, Jörg; Stauden, Thomas; Schawohl, Jens; Spieß, Lothar
Rapid thermal annealing of thin ZnO films. - In: Physica status solidi. Applications and materials science. - Weinheim : Wiley-VCH, 2005- , ISSN: 1862-6319 , ZDB-ID: 1481091-8, ISSN 1862-6319, Bd. 145 (1994), 2, S. 283-288

http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2211450208