Das wichtigste Ziel der 2. Generation besteht in der Übertragung der Rastersonden-Lithographie (SPL) von bisherigen kleinflächigen (10 μm x 10 μm) AFM-Systemen auf die NFM-100, also auf eine 78- millionenfach größere Fläche von 7800 mm². Das große Potenzial der auf metrologisch rückführbarer, laserinterferometrischer Nanomesstechnik basierten Technik soll in diesem Projekt unter Beweis gestellt werden. Ein wichtiges Ziel besteht darin Bedingungen und Strategien zu erarbeiten, unter denen die Fabrikation von sub-10 nm Strukturen auf der enormen Fläche zeitlich (ökonomisch) sinnvoll ist. Die Zusammenhänge zwischen Bearbeitungslänge, Scangeschwindigkeit, Reproduzierbarkeit, Präzision und Spitzenverschleiß, auch unter Einsatz spezieller Cantilevermaterialien, sind intensiv zu untersuchen. Es soll vor allem demonstriert werden, dass die Kombination aus nanoskaliger SPL und hochauflösender interferometrischer AFM-Metrologie das Potenzial für neue innovative Nanofabrikationstechniken und deren Umsetzung in entsprechenden –Maschinen besitzt. Erstmals sollen metrologisch rückführbare Nanofabrikationsprozesse für die reproduzierbare großflächige Herstellung, z.B. von neuen Quanten-Strukturen und komplexen nanoelektronischen Schaltungen, demonstriert werden.
Projektleiter: Prof. Manske, Dr. Ortlepp, Prof. Strehle