Stauden, Thomas; Eichhorn, Gerd; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg; Ecke, Gernot; Nennewitz, Olaf
ECR-Abscheidung von AlN auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 756-759
ECR-Abscheidung von AlN auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 756-759
Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar; Breternitz, Volkmar
Ohmsche Kontakte auf p-type 6H-Siliciumkarbid. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 730-735
Ohmsche Kontakte auf p-type 6H-Siliciumkarbid. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 730-735
Fabricius, Alexander; Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg
Herstellung von WSi 2 und TiSi 2 durch Co-Sputtern und RTA. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 724-729
Herstellung von WSi 2 und TiSi 2 durch Co-Sputtern und RTA. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 724-729
Hotový, Ivan; Vanek, Oldrich; Spieß, Lothar; Nennewitz, Olaf
NiO thin films applicable in gas sensors. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 713-718
NiO thin films applicable in gas sensors. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 713-718
Angelov, Mirko; Schön, S.; Goldhahn, Rüdiger; Nennewitz, Olaf
Synthese von ZnGe(As x P 1-x) 2 -Kristallen und Charakterisierung mittels elektrolytischer Elektroreflexion. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 692-697
Synthese von ZnGe(As x P 1-x) 2 -Kristallen und Charakterisierung mittels elektrolytischer Elektroreflexion. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 692-697
Fröhlich, Thomas;
Computersimulation zur Anwendbarkeit des Spiegelfacettenmodells bei der Auswertung von Defektstreulichtmessungen an hillockbehafteten Aluminium-Metallisierungsschichten. - Ilmenau, 1995. - 110 Blätter
Technische Universität Ilmenau, Dissertation 1995
Computersimulation zur Anwendbarkeit des Spiegelfacettenmodells bei der Auswertung von Defektstreulichtmessungen an hillockbehafteten Aluminium-Metallisierungsschichten. - Ilmenau, 1995. - 110 Blätter
Technische Universität Ilmenau, Dissertation 1995
Nennewitz, Olaf; Schmidt, H.; Pezoldt, Jörg; Stauden, Thomas; Schawohl, Jens; Spieß, Lothar
X-ray diffraction analysis of RTP-annealed thin ZnO films. - In: Thin films, (1994), S. 666-669
X-ray diffraction analysis of RTP-annealed thin ZnO films. - In: Thin films, (1994), S. 666-669
Nennewitz, Olaf; Schmidt, H.; Pezoldt, Jörg; Stauden, Thomas; Schawohl, Jens; Spieß, Lothar
Rapid thermal annealing of thin ZnO films. - In: Physica status solidi. Applications and materials science. - Weinheim : Wiley-VCH, 2005- , ISSN: 1862-6319 , ZDB-ID: 1481091-8, ISSN 1862-6319, Bd. 145 (1994), 2, S. 283-288
http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2211450208
Rapid thermal annealing of thin ZnO films. - In: Physica status solidi. Applications and materials science. - Weinheim : Wiley-VCH, 2005- , ISSN: 1862-6319 , ZDB-ID: 1481091-8, ISSN 1862-6319, Bd. 145 (1994), 2, S. 283-288
http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2211450208
Scherge, Matthias; Breternitz, Volkmar; Knedlik, Christian
Simulation of electromigration behaviour in Al metallization of integrated circuits. - In: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Bd. 32 (1992), 1/2, S. 21-24
http://dx.doi.org/10.1016/0026-2714(92)90083-W
Simulation of electromigration behaviour in Al metallization of integrated circuits. - In: Microelectronics reliability, ISSN 0026-2714, Bd. 32 (1992), 1/2, S. 21-24
http://dx.doi.org/10.1016/0026-2714(92)90083-W
Breternitz, Volkmar; Hoebbel, Helmut; Scherge, Matthias; Knedlik, Christian
Widerstandsmeßmethoden für Elektromigrationsuntersuchungen. - In: Vortragsreihen Mikroelektronik und Schaltungstechnik, Kommunikations- und Meßtechnik, (1992), S. 317-322
Widerstandsmeßmethoden für Elektromigrationsuntersuchungen. - In: Vortragsreihen Mikroelektronik und Schaltungstechnik, Kommunikations- und Meßtechnik, (1992), S. 317-322