Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg; Eichhorn, Gerd
Einfluß von Pufferschichten auf die Struktur und Morphologie von SiC-Epitaxieschichten auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 742-749
Einfluß von Pufferschichten auf die Struktur und Morphologie von SiC-Epitaxieschichten auf Si. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 742-749
Fabricius, Alexander; Nennewitz, Olaf; Spieß, Lothar; Cimalla, Volker; Pezoldt, Jörg
Herstellung von WSi 2 und TiSi 2 durch Co-Sputtern und RTA. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 724-729
Herstellung von WSi 2 und TiSi 2 durch Co-Sputtern und RTA. - In: Vortragsreihen, (1995), S. 724-729
Kalnin, Andrei A.; Neubert, Frank; Pezoldt, Jörg
Polytype patterning in epitaxial layers on the basis of non-equilibrium phase transitions. - In: Diamond and related materials, ISSN 0925-9635, Bd. 3 (1994), 4/6, S. 346-352
https://doi.org/10.1016/0925-9635(94)90184-8
Polytype patterning in epitaxial layers on the basis of non-equilibrium phase transitions. - In: Diamond and related materials, ISSN 0925-9635, Bd. 3 (1994), 4/6, S. 346-352
https://doi.org/10.1016/0925-9635(94)90184-8
Kretzer, Olaf; Lenk, Gerald; Wesch, Werner; Gunst, Ullrich
SIMS-characterization of ultra shallow boron-profiles after BF2+- and B+-low-energy-implantation in silicon. - In: Fresenius' journal of analytical chemistry, ISSN 1432-1130, Bd. 349 (1994), 1, S. 184-186
Im Titel ist "2" tiefgestellt, "+" hochgestellt
http://dx.doi.org/10.1007/BF00323265
SIMS-characterization of ultra shallow boron-profiles after BF2+- and B+-low-energy-implantation in silicon. - In: Fresenius' journal of analytical chemistry, ISSN 1432-1130, Bd. 349 (1994), 1, S. 184-186
Im Titel ist "2" tiefgestellt, "+" hochgestellt
http://dx.doi.org/10.1007/BF00323265
Nennewitz, Olaf; Schmidt, H.; Pezoldt, Jörg; Stauden, Thomas; Schawohl, Jens; Spieß, Lothar
X-ray diffraction analysis of RTP-annealed thin ZnO films. - In: Thin films, (1994), S. 666-669
X-ray diffraction analysis of RTP-annealed thin ZnO films. - In: Thin films, (1994), S. 666-669
Nennewitz, Olaf; Schmidt, H.; Pezoldt, Jörg; Stauden, Thomas; Schawohl, Jens; Spieß, Lothar
Rapid thermal annealing of thin ZnO films. - In: Physica status solidi. Applications and materials science. - Weinheim : Wiley-VCH, 2005- , ISSN: 1862-6319 , ZDB-ID: 1481091-8, ISSN 1862-6319, Bd. 145 (1994), 2, S. 283-288
http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2211450208
Rapid thermal annealing of thin ZnO films. - In: Physica status solidi. Applications and materials science. - Weinheim : Wiley-VCH, 2005- , ISSN: 1862-6319 , ZDB-ID: 1481091-8, ISSN 1862-6319, Bd. 145 (1994), 2, S. 283-288
http://dx.doi.org/10.1002/pssa.2211450208
Zöllner, Jens-Peter; Patzschke, Ingo; Pietzuch, V.; Pezoldt, Jörg; Leitz, Gunnar
Mathematical modelling of the dynamic behaviour in RTP. - In: Microelectronic engineering, Bd. 25 (1994), 2/4, S. 359-364
http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(94)90037-X
Mathematical modelling of the dynamic behaviour in RTP. - In: Microelectronic engineering, Bd. 25 (1994), 2/4, S. 359-364
http://dx.doi.org/10.1016/0167-9317(94)90037-X
Zöllner, Jens-Peter; Patzschke, Ingo; Pietzuch, V.; Pezoldt, Jörg; Eichhorn, Gerd
To the influence of the wafer edge in RTP. - In: Rapid thermal and integrated processing II, (1993), S. 177-182
To the influence of the wafer edge in RTP. - In: Rapid thermal and integrated processing II, (1993), S. 177-182
Leitz, Gunnar; Pezoldt, Jörg; Patzschke, Ingo; Zöllner, Jens-Peter; Eichhorn, Gerd
Investigation of dynamical temperature behaviour in RTP. - In: Rapid thermal and integrated processing II, (1993), S. 171-176
Investigation of dynamical temperature behaviour in RTP. - In: Rapid thermal and integrated processing II, (1993), S. 171-176
Zöllner, Jens-Peter; Ullrich, Klaus; Pezoldt, Jörg; Eichhorn, Gerd
New lamp arrangement for rapid thermal processing. - In: Applied surface science, Bd. 69 (1993), 1/4, S. 193-197
http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(93)90503-4
New lamp arrangement for rapid thermal processing. - In: Applied surface science, Bd. 69 (1993), 1/4, S. 193-197
http://dx.doi.org/10.1016/0169-4332(93)90503-4